德国Nanoscribe的纳米级高分辨率3D打印系统主要特征 1.具有 100 nm 特征尺寸控制的高速高分辨率 3D 微纳加工 2.广泛的基板和晶圆，最大可达 8 英寸 3.工业批量处理：200 种典型的中尺度结构可在一夜之间打印 4.通过花岗岩基层和减振实现高机械和热稳定性 5.个性化定制系统，适用于广泛应用，是多用户设施的理想选择SKU: Quantum X shapeCall for pricingQty: Add to cart Custom wishlist OKAdd to wishlistAdd to compare listEmail a friend3D微纳加工设备Quantum X shape是一款真正意义上的全能机型。基于双光子聚合原理 （2PP） 的可定制 3D 激光光刻系统提供独有的 3D 打印技术，使其成为 2.5D 和 3D 形状的快速原型制作和晶圆级批量处理的优秀工具，并同时具备亚微米级的精度和准确度。 技术特点概要· 快速原型制作，高精度，高设计自由度，简易明了的工程流程· 工业验证的晶圆级批量生产· 200 个典型中尺度结构的过夜打印量· 使用全新XLF打印套件，一次实现打印30立方厘米部件· 广泛的特定应用和通用打印材料· 模块化、可定制的系统 打印流程及尺寸范围· 基于双光子聚合的高分辨率3D打印技术· 应用于快速精确表面结构的双光子灰度光刻技术· 纳米级打印 – SF 打印套件，可在 x/y 方向上控制特征尺寸，最小可达 100 纳米· 微尺度打印 – MF 打印套件，用于打印 50 至 700 微米的典型尺寸· 中尺度打印 – LF 打印套件，尺寸可达几毫米· 宏观打印 – XLF Print Set 可加快最大 50 x 50 x 12 mm³ 的厘米级物体的批量生产标准参数表面粗糙度 (Ra) ≤ 5 nm 最小特征尺寸1 100 nm形状准确度 ≤ 200 nm批量生产200个标准结构的通宵产量Single print field diameterup to ≥ 4,000 µm最大扫描速度6.25 m/s/透镜放大倍数2 系统基本特征打印技术基于双光子聚合的逐层3D打印具有体素调节能力的双光子灰度光刻基片显微镜载片(3” x 1” / 76 x 26 mm2)硅片，1” (25.4 mm) 到 8” (200 mm)玻璃、硅及其他不透明材料光刻胶Nanoscribe IP胶 （聚合物打印）Nanoscribe GP-Silica胶（玻璃打印）兼容第三方及各类自主材料最大打印面积50 x 50 mm²提供的数据可能因光刻胶及几何形状而有不同1 各空间方向上100nm的特征尺寸可控2 e.g. 10倍物镜放大倍率：625nm/s
